氩气纯化氩气纯化装置

 氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。

由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，使用氩气的客户不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。

一般 O2＜0.5ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。

二 关于氩气纯化的方法

 *种

直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应，消化掉氩气中的氧气，从而达到脱除氧气的目的，经过分子筛吸收掉氩气中的水份，使氩气的含水量小于1ppm。

 第二种

    是采用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后，氩气的纯度可达到6个9。这种保护气体更适用于制作高纯度的半导 

         O2＜0.1ppm

         H2＜0.1 ppm

         N2＜0.2 ppm

         CO+CO2＜0.3 ppm

         CH4＜0.2 ppm

          水份＜ 1 ppm

*种方法设备投资小,设备中脱氧剂的使用寿命一般大于两年。

第二种方法设备投资大,吸气剂使用寿命为一年,更换吸气剂的价格也偏高。

按照现在光伏行业对氩气的需求，推荐使用直接脱氧法即可满足生产需要

（脱氧剂设备工作原理 ）

设备工作设有两组工作组，填装的净化材料属于可再生重复利用材料。原料液氩经汽化器汽化后由设备工作进口进入设备一组工作组，经脱氧剂、分子筛及精密高效过滤器后送出至工作点使用。一组工作组负荷饱和后，切换到另一组工作组工作，保证为使用点连续的提供高纯氩气。同时一组工作组开始再生加热加氢反吹洗（本系统加氢是为了还原脱氧剂，加氢结束后设备自动吹洗并直接放空），为等待下一次切换使用做好准备。

装置工作为常温工作，脱氧程度深、碳水含量低，均可达到并高于GB高纯氩气标准。