CTS AP-200 CMP化学机械抛光机
产品关键词：抛光机 化学机械抛光机
- 产品名称：CTS AP-200 CMP化学机械抛光机
- 产品编号：
- 产品商标：
- 产品规格：空
- 参考价格：面议
- 更新时间：2021/9/2 11:12:39
- 点击次数：171次
主要技术参数：
- 抛光平台转速：0-200 rpm
- 抛光头载体转速：0-200 rpm
- 整理器转速：0-150 rpm
- 抛光液流速：20-500 cc/min
- 整理器下压力：2- 20 lbs
2. 工艺数据可实时监测；
3.多种抛光液 & 高压去离子水系统
- 内置两个共给抛光液的泵单元
- 抛光液材质：氧化物，钨，铜，二氧化铈等
- 流量：20?500cc / min
- 双排喷嘴排列布置，具有高压清洁效果
- 通过各种不同喷嘴角度，更干净的清洗抛光垫
AP-200 CMP化学机械抛光机应用领域：
- ILD（层间电介质）CMP，IMD（金属间电介质）CMP，氧化物CMP，多晶硅CMP，钨CMP，铜CMP
- 半导体CMP 工序（Semiconductor CMP）
- MEMS CMP
- 高校及科研院所高品质科研测试（University, Lab _High Quality Performance Test）
- 晶片研磨代工企业（Wafer Polishing Service）
- CMP耗材研发企业（CMP Consumable Parts），CMP抛光液，金刚石研磨垫整理器，CMP研磨垫
注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况
