锂离子电池负极材料高速研磨机,半导体材料高速研磨分散机
- 产品名称:锂离子电池负极材料高速研磨机,半导体材料高速研磨分散机
- 产品编号:CMSD2000
- 产品商标:1
- 产品规格:1-1-1
- 参考价格:面议
- 更新时间:2024/4/1 14:45:37
- 点击次数:2000次
锂离子电池负极材料高速研磨机,半导体材料高速研磨分散机,纳米硅石墨烯复合材料研磨分散机,纳米硅粉体材料在线式混合分散机,电池隔膜浆料湿法粉碎机,石墨复合材料分散机,新型锂离子电池负极材料分散机
目前随着全qiu性石油资源紧缺与气候环境的不断恶化,发展清洁节能的新能源汽 车受到世jie各国的高度重视。新能源汽车的发展,关键在其动力电源。目前,商业化的锂离 子电池主要采用石墨类负极材料,但它的理论比容量仅为372mAh/g,无法满足未来锂离子电池对高能量密度的需求。所以开发高性能新型电极材料成为研究zhong点。
硅具有超高的理论比容量(4200mAh/g)和较低的脱锂电位(〈0.5V),且硅的电压平 台略高于石墨,在充电时难引起表面析锂,安全性能更好,硅成为锂离子电池碳基负极换代 的富有潜力的选择之一,
但硅作为锂离子电池负极材料也有缺点:
(1)硅材料在充放电过程 中容易发生体积膨胀,导致导电网络崩塌,影响电循环性能;
(2)硅是半导体材料,自身的电 导率较低,在充放电循环过程中,锂离子的脱嵌会导致材料发生300%以上的体积膨胀和收 缩,从而造成材料结构的破坏和粉化,致使容量迅速衰减,循环性能恶化。
(3)硅材料在循环 过程中易腐蚀,容量衰减;
(4)由于硅材料的体积效应,在电解液中难以形成稳定的固态电 解质界面(SEI)膜,伴随着电极结构的破坏,在暴露出的硅表面不断形成新的SEI膜,加剧了 硅的腐蚀和容量衰减。
制备步骤:将所述纳米硅/石墨在乙醇溶剂中搅拌分散lh,将层数为50层的氧化石墨烯加 入所述纳米硅/石墨溶液中混合,混合比例为X:X,持续搅拌IOh,然后喷雾造粒得到纳米硅/ 石墨/石墨烯复合材料。
分散技术三要素:分散介质、分散剂和分散设备
1、分散介质
(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中,如水和有机溶剂,纳米粉体管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等,高粘度介质如熔融态的塑料
(2)本文件介绍的纳米粉体管分散技术,针对中、低粘度分散介质
2、分散剂
(1)分散剂的选择,与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关
(2)分散剂的用量,与纳米粉体比表面积和共价键修饰的功能基团有关
(3)水性介质中,推荐使用。强极性有机溶剂中,如醇、DMF、NMP, 推荐使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶,推荐使用TNEDIS
3、分散设备
(1)超声波分散设备:非常适合实验室规模、低粘度介质分散,用于中、高粘度介质时会受到限制
(2)研磨分散设备:适合大规模地分散、中粘度介质分散
(3)采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法,可以高效、稳定地分散。
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纳米硅/ 石墨烯复合材料高速分散机用了二级处理结构,
第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块,
第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,(2P剪切力zui弱,为粗齿,8SF剪切力zui强,为超细齿)且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进,可提供可靠的可扩展性,可重复性和性能。我们zui新的设计融合了许多创新,提供更多应用多功能性,更易于清洁和维护。
从设备角度分析,影响分散结果的因素有以下几点:
1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
分散机的优势:
处理量大,适合工业化在线连续生产;
粒径分布范围窄,匀度高;
省时、高效、节约能源;
精密铸造的整体式机架和经精密动平衡测试的道转子,确保整机运行噪音低、运转平稳;
消除批次间生产品质的差异;
无死角,物料全部通过粉碎分散剪切;
具有短距离,低扬程输送功能;
使用简单,维修方便;
可实现自动化设置;
集装式机械密封,保证物料无泄漏;
CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表
型号 |
流量 L/H |
转速 rpm |
线速度 m/s |
功率 kw |
入/出口连接 DN |
||
CMSD 2000/4 |
300 |
14000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
||
CMSD 2000/5 |
1000 |
10500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
||
CMSD 2000/10 |
4000 |
7200 |
41 |
22 |
DN80/DN65 |
||
CMSD 2000/20 |
10000 |
4900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
||
CMSD 2000/30 |
20000 |
2850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
||
CMSD 2000/50 |
60000 |
1100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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