水性体系中炭黑分散的影响因素及高速研磨分散机
- 产品名称:水性体系中炭黑分散的影响因素及高速研磨分散机
- 产品编号:73
- 产品商标:IKN
- 产品规格:198000
- 参考价格:面议
- 更新时间:2024/3/5 10:18:54
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水性体系中炭黑分散的影响因素及高速研磨分散机,炭黑色浆研磨分散剂,炭黑破碎,炭黑润湿 炭黑分散 是 透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超细粉碎及乳化的效果。
分散炭黑的目的是使炭黑在载体中处于一种胶体的分布状态,这种分布程度会直接影响到制品的色相、黑度和遮盖力。炭黑的分散主要受制于三个因素:炭黑本身的特性;载体或分散介质的类型;所使用的分散设备类型。在使用炭黑着色时,如果炭黑分散不良会导致以下方面的后果:
炭黑是一种广泛应用于印墨中的着色剂 , 许多生产厂家从提高炭黑在水中的润湿性着手 , 推出各种适于水性体系使用的炭黑 , 如美国 Cabot 公司生产出 REGAL -400R 等。然而 , 关于水性体系中影响炭黑分散稳定的各种因素尚无系统的报道。水高介电常数的特点
使得在水性体系中能够影响粒子间电斥力的因素不容忽视 , 因此 , 系统地研究炭黑表面酸碱性、分散剂结构、体系 pH 值以及电解质的加入对水性体系中炭黑分散的影响不仅能够为国产炭黑及分散剂的改性提供理论依据 ,
炭黑在水性体系中通过使用分散剂达到分散目的时 , 其表面酸碱性和原生粒径大小对分散性
能有显著的影响 , 其中以原生粒径较小的酸性炭黑易于分散。
(2) .根据分散剂结构的不同 , 炭黑表面可以酸碱作用范德华力和平面分子间的π - π作用力与分
散剂结合 , 其中非选择性的范德华力和平面分子的π - π作用力受 pH 值及电解质干扰较少 , 可以形成牢固结合 ; 同时分散剂的亲水端含有可以提供电斥
力的溶剂化链 , 会显著提高其分散能力。
(3) .
分散体系的酸性会抑制聚羧酸盐类分散剂亲水连段的溶剂化 , 使其不能充分伸展在水中 , 从而
降低分散剂的分散能力。
(4) .
水性体系中电解质的加入不仅会压缩胶束表面的双电层 , 降低由炭黑表面解离或分散剂亲水
端盐基解离所产生的电斥力 , 还会影响炭黑表面与两性分散剂的盐键结合 , 从而降低炭黑的分散性能。
磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第er级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,te别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征dou能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出#终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
研磨分散机应用领域: 化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛bai粉,炭黑,纤维素,石墨烯,碳纳米管,富勒烯,电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。 食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱,食用菌丝,蛋bai粉 ,豆粕酶解等
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设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无jun级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐mo处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
研磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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CMSD 2000/4 |
300 |
14,000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 |
1000 |
10,500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 |
4000 |
7,200 |
41 |
30 |
DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 |
10000 |
4,900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 |
20000 |
2,850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
CMSD2000/50 |
60000 |
1,100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。 |
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炭黑表面酸性官能团量的增加 , 可以显著缓解电解
质从这两方面对体系分散稳定性产生不利的影响。
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