CVD气相沉积系统 CVD高真空管式实验炉

TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统

技 术 参 数

设备简介

 TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统是利用辉光放电产生的等离子体中的电子动能去激活气相的化学反应。该系统由TF1200系列真空管式炉、石英反应腔室、射频电源、多通道混气系统、真空机组、反应控制系统组成。

设备特点

1、利用辉光放电产生等离子体电子激活气相；

2、提高了气相反应的沉积速率、成膜质量；

3、可通过调整射频电源频率来控制沉积速率；

4、能广泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。

开启式真空管式炉

石英管

Φ60/80/100mm L1400mm

加热区尺寸

440mm

恒温区尺寸

200mm

控温模式

采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。

升温速率

≤20℃min

极限温度

≤1200℃

长时间工作温度

≤1150℃

表面温度

< 60℃（1000℃保温）

控温精度

±1℃

加热元件

电阻丝（0Cr27Al7Mo2）

密封及连接方式

CF  KF  真空波纹管

质量混气系统

流量规格

50sccm\100sccm\200sccm\300sccm\500sccm(可自选量程)

调节阀类型

电磁调节阀

控制精度

±0.2%F.S

工作压差范围

（50～300）KPa

混气罐尺寸

Φ80×120mm

电功率

AC220V/50HZ/20W

真空系统参数

低真空配置

4L/S 机械泵  电阻真空计 真空波纹管 挡板阀

极限真空度：≤0.1Pa

高真空配置

4L/S 机械泵  300L/S分子泵 复合真空计 真空波纹管 挡板阀 

极限真空度：≤1.3×10-4Pa

射频电源系统

输出功率

5-300W   5-500W  (可选)

控制模式

手动/PLC/PC

工作频率

13.56MHZ标准正弦波

供电电压

单相交流（190V～240V）

冷却方式

风冷

设备外形尺寸

1800mm（长）*600mm（宽）*1390mm（高）

设备重量

215KG

服务保障

质量：产品的制造和检测严格按相关标准执行，并有质量记录可查；每台设备都有*的制造编号，并建立用户档案。

交货期：按合同约定执行；如客户有特殊原因需提前交货的，我公司可特别组织生产，力争满足用户需求。

售   后

1、物流送货****；

2、高效率服务：当设备不能正常使用时，请及时联系我们，我们会在10分钟内响应；2小时内提供应急解决方案；24小时内安排专业人员上门服务；

3、免费更换维修服务：本产品提供一年免费保修服务（易损件除外）；

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