高剪切胶体磨

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 胶体磨工作原理：胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

带胶体磨CM模块的LP是高性能的带可调节研磨颗粒大小的设备，跟基本型一样，使用的也是定转子作用原理 . 但是研磨间隙的设计与基本型的不同. 定转子间的研磨缝隙锥形的设计使得它能够通过转移定子来进行连续的调整. 研磨缝隙的调整使得设备可以得到稳定的乳浊液和湿磨时得到*好微粒.

研磨缝隙可以用外罩上的调整环来手动调节. 研磨工具由2部分标准的径向齿的组成,也就是转子和定子一前一后紧密排列.*层的齿比较粗糙并且有特殊的进料区域. 第二层的齿非常精密.

设备不能够自己进料, 但是能够在出料口处形成压力克服真空进料. 真空度取决于研磨缝隙的大小和定转子转速.

跟基本型设备一样带CM模块的LP也可以通过 LP CONTROLLER来调速. 调节范围是3160 rpm 到 13750 rpm. *高速时的*大线速度可以达到约 40 m/s. 由于转子的线速度影响研磨效果, 使用LP CONTROLLER 使得设备可以适应不同的工艺需求. 在CM胶体磨模块下启动时设备的初始速度必须是标准的7900 rpm, 并且利用任何有利于基础速度的条件.

如果有特定的物料或者产品特性,例如高粘度, 设备使用极限功率达到非常高的速度. 但是，要超过电机的额定电流较长时间.如果有必要速度要降，直到实际电流刚好不超过额定电流. 额定电流可以由LP CONTROLLER显示屏读出.为了防止电机过载，电机应该由过热保护装置及时停止