广西师范大学RIE反应离子刻蚀机顺利验收
来源：那诺-马斯特中国有限公司 发布时间：2022/10/18 12:31:39 点击次数：2905
近日，NANO-MASTER工程师至广西师范大学，顺利安装验收NRE-3000型RIE反应离子刻蚀系统！
详细参数：
1. 腔体：10”直径的圆柱形腔体；阳极氧化铝材质，抗腐蚀性强；上下盖设计，气动升降顶盖，一键实现上盖的开启/闭合；淋浴头设计，较佳的气流均匀分布
2. 样品台：4”样品台；冷却功能；偏压功能，支持各向异性的垂直刻蚀；
3. 质量流量控制器：4路气体，每路包含MFC、气动截止阀和不锈钢管路气体
4. 真空系统：分子泵与机械泵，4分钟内可达10-4Torr的高工艺真空度，12小时抽气后，干净腔体中的压力可达极限真空6x10-7 Torr；分子泵与工艺腔体采用直连设计方案，具有较佳的真空传导率
5. 射频电源：13.56MHz，300W，反射功率≤5W，配套自动调谐器，稳定输出功率为95%
6. 控制系统：Lab View软件控制；四级密码授权访问；压力、流量、功率等主要参数指标实时显示；20”的监控屏幕
7. 系统信息：26”×26”占地面积；铝质柜体；的安全联锁
8. 主要工艺参数
（1）应用范围：有机物刻蚀、硅的化合物刻蚀、光刻胶去胶等；
（2）工艺参数：4”片为例；
（3）刻蚀均匀性优于：+/-3%；
（4）Si3N4的刻蚀速率：≥50nm/min；
（5）对PR选择比：≥1.5:1；
（6）陡直度：≥82°；
（7）SiO2的刻蚀速率：≥40nm/min；
（8）对PR选择比：≥1.5:1；
（9）陡直度：≥85°。